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          • 超分辨光刻设备研制项目经过过程验收 可加工22纳米芯片

            作者:董瑞丰、吴晓颖 来源:新华社 时光:2018-11-29 23:23 浏览:1081 [投稿]
            国度重大年夜科研设备研制项目“超分辨光刻设备研制”29日经过过程验收。该光刻机由中国科学院光电技巧研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合两重暴光技巧后,将来还可用于制造10纳米级其余芯片。

            11月29日,国度重大年夜科研设备研制项目“超分辨光刻设备研制”29日经过过程验收。该光刻机由中国科学院光电技巧研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合两重暴光技巧后,将来还可用于制造10纳米级其余芯片。

            中科院理化技巧研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次暴光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在道理上冲破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大年夜面积的纳米光刻设备研发新线路,绕过国外相干常识产权壁垒。


            光刻机是制造芯片的核心设备,我国在这一范畴经久落后。它采取类似照片冲印的技巧,把母版上的精细图形经过过程暴光转移至硅片上,一般来讲,光刻分辨力越高,加工的芯片集成度也就越高。但传统光刻技巧由于遭到威尼斯国际娱乐网站衍射效应的影响,分辨力进一步进步遭到很大年夜限制。


            为取得更高分辨力,传统上采取缩短光波、增长成像体系数值孔径等技巧路径来改进光刻机,但技巧难度极高,设备本钱也极高。

            项目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次经过过程验收的外面等离子体超分辨光刻设备,打破了传统线路格局,构成一条全新的纳米威尼斯国际娱乐网站光刻技巧线路,具有完全自立常识产权,为超材料/超外面、第三代威尼斯国际娱乐网站器件、广义芯片等变革性范畴的逾越式成长供给了制造对象。


            中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备

            据知道,这类超分辨光刻设备制造的相干器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大年夜学、四川大年夜学华西医院、中科院微体系所等多家科研院所和高校的重大年夜研究义务中取得利用

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