<dfn id='0xgke'><optgroup id='0xgke'></optgroup></dfn><tfoot id='0xgke'><bdo id='0xgke'><div id='0xgke'></div><i id='0xgke'><dt id='0xgke'></dt></i></bdo></tfoot>

          <ul id='0xgke'></ul>

          • 切换到宽版
          • 广告投放
          • 稿件投递
          • 繁體中文
            • 473浏览
            • 32答复

            [资讯]超分辨光刻设备研制项目经过过程验收,光刻分辨力达到22纳米! [复制链接]

            上一主题 下一主题
            在线cyqdesign
             
            发帖
            21572
            光币
            45184
            光券
            0
            只看楼主 倒序浏览 楼主  揭橥于: 11-29
            关键词: 光刻
            2018年11月29日,由中国科学院光电技巧研究所承当的国度重大年夜科研设备研制项目“超分辨光刻设备研制”顺利经过过程验收。验收专家组由中国科学院理化技巧研究院许祖彦院士担负组长。该项目组结合实际利用需求,经过过程技巧的延长,实现了系列化的超分辨光刻设备研制,解决了多种微纳功能材料和器件的加工困难,并实现了相干器件的制造,相干器件已在多家科研院所和高校的重大年夜研究义务中取得利用。 b7/4~_s  
            G.8ZISN/  
            P? n`n!qZ  
            中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备(供图:中科院科技摄影同盟)
            -q27N^A0  
            微纳光刻技巧是现代先辈制造的重要偏向,是信息、材料等诸多范畴的核心技巧,其程度高低也是表现一个国度综合实力的标记。但是,由于汗青缘由,我国在此范畴经久落后于并受制于西方蓬勃国度;别的一方面,威尼斯国际娱乐网站超材料、变革性威尼斯国际娱乐网站等诸多颠覆性技巧的出现,急切须要成长专用的微纳制造对象。 K[H$qJmPX  
            c2QC`h(Wb  
            深紫外光刻作为国际领先的主流纳米技巧,由于衍射极限的限制,即使经过过程数十片超周详复杂镜片,还需采取淹没式、屡次暴光、多重图形等技巧进一步进步分辨力,导致光刻设备本钱极高。电子束、离子束直写技巧固然分辨率能达到10nm量级,但效力极低,难以满足新兴范畴对纳米制造的需求! b%6 _LK[  
            ~?FKww|_*J  
            2003年,中国科学院光电技巧研究地点国际上率先发清楚明了异常杨氏双缝干涉现象,揭露了亚波长构造中存在一种超构外面波,且其波长可以调制到软X射线标准,为冲破衍射极限供给了全新的道理办法和直接的手段。2012年,光电所承当了国度重大年夜科研设备——超分辨光刻设备项目。经过近6年艰苦攻关,在无国外成熟经验可鉴戒的情况下,项目组冲破了高平均性照明,超分辨光刻镜头,纳米级分辨力检焦及间隙丈量,超周详、多自由度工件台及控制等关键技巧,完成了国际上首台分辨力最高的超分辨光刻设备研制。采取365nm波长光源,单次暴光最高线宽分辨力达到22nm(约1/17暴光波长)。在此基本上项目组结合项目开辟的精深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,实现了10nm以下特点尺寸图形的加工。该项目今朝已取得了授权国内创造专利47项,国外创造专利4项,具有完全自立常识产权。  BH^q.p_#>X  
            1?;s!6=  
            .W\Fa2}%av  
            项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻设备研制项目攻关情况(供图:中科院科技摄影同盟)
            }N NyUwFa  
            专家组一致认为:项目组按照实施筹划的请求,美满完成了超分辨光刻设备的研制工作,设备所有技巧指标均达到或优于实施筹划规定的考察指标请求,关键技巧指标达到超分辨成像光刻范畴的国际领先程度。项目在道理上冲破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大年夜面积的纳米光刻设备研发新线路,绕过了国外高分辨光刻设备技巧常识产权壁垒,实现了我国技巧泉源创新,研制出了具有自立常识产权、技巧自立可控的超分辨光刻设备。项目组冲破了超分辨光刻镜头、周详间隙检测、纳米级定位精度工件台、精深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心关键技巧,加工分辨力已延长到10nm以下。利用超分辨光刻设备,为多家单位制备了一系列纳米功能器件,验证了超分辨光刻设备纳米功能器件加工才能,已达到实用化程度。专家组一致同意项目经过过程验收。
             
            光行世界优良广告位经久招租!接洽方法 → QQ:9652202  微旌旗灯号:cyqdesign
            分享到
            发帖
            351
            光币
            2808
            光券
            0
            只看该作者 1楼 揭橥于: 11-30
            超分辨光刻设备研制项目经过过程验收,光刻分辨力达到22纳米。
            发帖
            351
            光币
            2808
            光券
            0
            只看该作者 2楼 揭橥于: 11-30
            揭露了亚波长构造中存在一种超构外面波,且其波长可以调制到软X射线标准,为冲破衍射极限供给了全新的道理办法和直接的手段。
            在线眼浊
            发帖
            90
            光币
            382
            光券
            0
            只看该作者 3楼 揭橥于: 11-30
            再上一个新台阶!
            离线bairuizheng
            发帖
            4056
            光币
            19278
            光券
            0
            只看该作者 4楼 揭橥于: 12-01
            国外创造专利4项
            离线dushunli
            发帖
            1047
            光币
            10646
            光券
            0
            只看该作者 5楼 揭橥于: 12-01
            光刻分辨力!
            发帖
            351
            光币
            2808
            光券
            0
            只看该作者 6楼 揭橥于: 12-01
            项目组冲破了超分辨光刻镜头、周详间隙检测、纳米级定位精度工件台、精深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心关键技巧,加工分辨力已延长到10nm以下。
            离线likaihit
            发帖
            898
            光币
            8797
            光券
            0
            只看该作者 7楼 揭橥于: 12-01
            能不克不及喝荷兰的asml公司相媲美
            离线redplum
            发帖
            2136
            光币
            21408
            光券
            0
            只看该作者 8楼 揭橥于: 12-01
            能不克不及实用化不知道
            在线daite1978
            发帖
            324
            光币
            811
            光券
            0
            只看该作者 9楼 揭橥于: 12-01
            再上一个新台阶!
            快速答复
            限100 字节
            1.发帖,回帖请文明用语;2.切勿灌水,切忌多版面反复发贴;3.攻击不法内容,病毒,虚假广告.
             
            上一个 下一个